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济宁大功率激光腐蚀机加盟免费咨询「蓝光同茂」

发布时间:2022-05-09 09:51:54        







蚀刻机可以分为化学蚀刻机及电解蚀刻机两类。在化学蚀刻中是使用化学溶液,经由化学反应以达到蚀刻的目的,化学蚀刻机是将材料用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。    

1、蚀刻机喷头的介绍    蚀刻机喷头是蚀刻机喷淋装置中的一个部件,药液喷淋的形状是根据蚀刻机喷头的种类来决定的,不同的蚀刻机喷头所起到的作用是不一样的。蚀刻机喷头的作用及维护    2、蚀刻机喷头的作用    主要作用是把蚀刻液均匀的喷淋到工件上,蚀刻机喷头根据蚀刻机每道工序所对应的要求所选择不同的种类。比如:常规情况下蚀刻段选择用扇形,因为蚀刻段对压力的要求比较高,而我们扇形喷嘴喷淋出的液体压力会相对较高;显影段和退膜段我们就采用锥形喷嘴,因为这两处需要覆盖面广,而锥形喷嘴刚好就有这种特性。    3、蚀刻机喷头的维护    蚀刻液是通过蚀刻机喷头顶端的小孔把给喷淋出来,这个小孔的直径是很小的,所以是很容易堵塞的,而我们的蚀刻液沉淀物和腐蚀下来的残渣都是颗粒状的,使用的时间过长了这些固体颗粒物的形成就会堵塞喷头,所以我们需要定期的清理蚀刻机的喷头才能达到良好的腐蚀效果。




离子植入:其是用来控制半导体中杂质量的关键程序,对半导体表面附近区域进行掺杂技术。优点在于杂质量的控制,杂质分布的再重整,及低温下操作。    离子植入机主要的供厂商为AMAT,中国部份只有中电科电子装备公司能供应。市场预计今明两年中国离子植入机需求可达5亿美元与7亿美元。    沉积:PVD沉积为一种物理制程,此技术一般使用等惰性气体,藉由在高真空中将离子以加速撞击溅镀靶材后,将靶材原子一个个溅击出来,使被溅击出来的材质沉积在晶圆表面。    薄膜沉积设备主要的供应商包含应用材料、Vaportech、LamResearch、A***、Tokki等。而中国相关设备制造厂有北方华创、沈阳拓荆等。北方华创是中国薄膜沉积设备龙头,目前技术已达到14nm。市场预计今明两年中国薄膜沉积设备需求可达15亿美元与20亿美元。    测试:在晶圆完成制造之前,会有一道晶圆中测工序。在测试过程中,会检测每一个芯片的电路功能。




药性减低的原因及还原方式

  随着化学反应的进行,蚀刻液药性降低,是因为三氯化铁氧化成了氯化亚铁,此时需要将氯化亚铁还原成三氯化铁增加药液酸性。需加入水溶液(还原剂)﹑盐酸()

  2.还原反应:2FeCl2+N***O+2HCL﹦2FeCl3+N***+H2O

  氯化亚铁++盐酸=三氯化铁+氯化钠+水(由于亚铁离子在水中极易水解而产生氢氧化亚铁:FeCl2+H2O=,Fe(OH)2+HCL所以为了防止氯化亚铁水解变质,常在氯化亚铁溶液中添加一些盐酸.)

  3.由于盐酸容易挥发,随着化学反应的进行,还会发生以下反应:

  6FeCl2+N***o+3H2O=4FeCl3+2Fe(OH)3 ↓+N***

  氯化亚铁++水=三氯化铁+氢氧化铁(沉淀物)+氯化钠

  (其中氢氧化铁为沉淀物,所以随着化学反应时间的加长,药箱内会出现粘稠状物质。除去该粘稠状沉淀物,需采用物理过滤方式,如:过滤网过滤或净水装置)







三氯化铁是一种共价化合物,也是目前蚀刻(腐蚀)行业针对不锈钢US304腐蚀性价比高且广泛使用的***,三氯化铁易溶于水并且有强烈的吸水性,能吸收空气里的水而潮解。FeCl3融水后带有6个结晶水FeCl3·6H2O又称结合水。结晶水是结合在化合物中的水分子,它们并不是液态水。很多晶体含有结晶水,但并不是所有的晶体都含有结晶水。溶质从溶液里结晶析出时,晶体里结合着一定数目的水分子,这样的水分子叫结晶水。在结晶物质中,以化学键力与离子或分子相结合的、数量一定的水分子,如受到外界影响。例如,在逐步升温的条件下,CuSO4·5H2O可以分步失去结晶水,依次转变为CuSO4·3H2O、CuSO4·H2O 、CuSO4。某些水合物在加热时 ,可能和所含的结晶水发生水解反应,转变为氧化物或碱式盐。




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